Notícias

No domínio da medição e instrumentação de precisão, a régua de linha de vidro óptico emergiu como uma ferramenta revolucionária que ultrapassa os limites da precisão e da confiabilidade. Este dispositivo inovador aproveita a clareza incomparável e a estabilidade dimensional do vidro óptico para criar uma régua que estabelece novos padrões de linearidade, repetibilidade e durabilidade.

No domínio dos sistemas de imagem óptica, a avaliação precisa do poder de resolução de um instrumento é fundamental. Para atender a essa necessidade, a Força Aérea dos Estados Unidos (USAF) desenvolveu uma ferramenta pioneira em 1951 sob o padrão MIL-STD-150A: o Gráfico de Teste de Resolução da USAF de 1951. Desde então, este dispositivo microscópico de teste de resolução óptica tornou-se uma referência onipresente para avaliar a clareza e a capacidade de captura de detalhes de vários sistemas de imagem.

No domínio da metrologia óptica de precisão, os hologramas gerados por computador (CGH) surgiram como ferramentas poderosas para testar e medir superfícies ópticas complexas. Entre estes, os Nulos de Cilindro CGH ganharam atenção significativa por sua capacidade de avaliar com precisão superfícies cilíndricas. Este artigo explora os princípios, design e aplicações dos cilindros nulos CGH, enfatizando seu papel no avanço dos recursos de testes ópticos.

Os hologramas gerados por computador (CGH) revolucionaram o campo dos testes ópticos, particularmente na medição de superfícies asféricas. Entre as diversas técnicas de CGH, os corretores nulos de CGH desempenham um papel crucial na garantia de alta precisão e confiabilidade. Este artigo investiga os princípios, considerações de design e aplicações dos corretores nulos CGH, enfatizando sua importância em testes ópticos de precisão.

As fotomáscaras, também conhecidas simplesmente como máscaras, são ferramentas vitais na produção de circuitos integrados (ICs) ou “chips”. Essas placas opacas com áreas transparentes que permitem a passagem da luz em um padrão definido desempenham um papel crucial no processo de fotolitografia, que é uma das etapas principais na fabricação de semicondutores. Neste artigo, exploraremos como as fotomáscaras são utilizadas na produção de CIs.

No mundo da fabricação de semicondutores, fotomáscaras e retículas desempenham papéis cruciais na produção de circuitos integrados (CIs). Embora esses termos sejam frequentemente usados ​​de forma intercambiável, na verdade eles se referem a componentes distintos com funções específicas. Compreender a diferença entre uma máscara fotográfica e um retículo é essencial para qualquer pessoa envolvida na indústria de microeletrônica.