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As fotomáscaras de filme desempenham um papel vital na produção óptica moderna, na padronização de semicondutores, no desenvolvimento de PCB e em vários processos de microfabricação. Eles servem como transportadores de padrões de alta precisão, permitindo imagens precisas baseadas em luz ou gravação em diferentes substratos. Neste artigo, explicarei como funciona uma máscara fotográfica de filme, por que ela é importante e quais parâmetros técnicos tornam nossas soluções da Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. Estrutura clara, linguagem fácil de ler e profundidade profissional são mantidas por toda parte.

No campo em rápida evolução da metrologia óptica, os CGH Cylinder Nulls surgiram como ferramentas indispensáveis ​​para testes de precisão e calibração de superfícies cilíndricas e asféricas. Ao substituir configurações mecânicas complexas por holografia gerada por computador (CGH), esses corretores nulos permitem verificação de superfície ultraprecisa em sistemas ópticos de ponta, como telescópios, lentes de câmeras e instrumentos de inspeção de semicondutores. Este artigo explora como, por que e o que torna os Nulos de Cilindro CGH vitais para indústrias que buscam precisão submícron e soluções de teste econômicas, ao mesmo tempo em que destaca a excelência profissional da Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., um fabricante líder neste campo.

Os corretores nulos CGH (corretores nulos de holograma gerados por computador) são dispositivos avançados de teste óptico usados ​​para medir e corrigir aberrações em sistemas ópticos de precisão, como lentes ou espelhos asféricos e de forma livre.

Film Photomask é uma placa mestre usada para fabricação de wafer de circuito integrado, contendo informações relevantes do layout do projeto do circuito integrado. No processo de fabricação do wafer, o padrão da Film Photomask é transferido para o material do substrato exposto por meio de uma série de processos, como revestimento fotorresistente, exposição e revelação, para obter a transferência do padrão.

Uma Fotomáscara, também conhecida como máscara de luz, máscara fotográfica ou máscara de fotolitografia, é um padrão mestre usado no processo de fotolitografia na fabricação de microeletrônica. A seguir está uma introdução detalhada a ele:

Ao responder ao ajustamento tarifário dos Estados Unidos, a indústria óptica precisa de adoptar medidas estratégicas multidimensionais para equilibrar a pressão dos custos, manter a quota de mercado e promover a modernização industrial. A seguir está a análise da estratégia específica: