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As fotomáscaras, também conhecidas simplesmente como máscaras, são ferramentas vitais na produção de circuitos integrados (ICs) ou “chips”. Essas placas opacas com áreas transparentes que permitem a passagem da luz em um padrão definido desempenham um papel crucial no processo de fotolitografia, que é uma das etapas principais na fabricação de semicondutores. Neste artigo, exploraremos como as fotomáscaras são utilizadas na produção de CIs.
No mundo da fabricação de semicondutores, fotomáscaras e retículas desempenham papéis cruciais na produção de circuitos integrados (CIs). Embora esses termos sejam frequentemente usados de forma intercambiável, na verdade eles se referem a componentes distintos com funções específicas. Compreender a diferença entre uma máscara fotográfica e um retículo é essencial para qualquer pessoa envolvida na indústria de microeletrônica.
Os hologramas gerados por computador (CGHs) revolucionaram o campo da holografia, permitindo a criação digital e a exibição de imagens tridimensionais sem a necessidade de materiais de gravação holográfica tradicionais. Esses hologramas utilizam algoritmos computacionais para simular os padrões de interferência que seriam criados por um objeto real, permitindo a geração de imagens holográficas que podem ser exibidas usando uma variedade de técnicas. Neste artigo, exploraremos as etapas básicas envolvidas na criação de um holograma gerado por computador, com foco nos hologramas baseados em Fourier, que representam uma classe importante de CGHs.
No cenário em constante evolução da tecnologia moderna, a precisão e a exatidão tornaram-se fundamentais em vários setores. É aqui que entra a Placa de Calibração de Visão de Máquina (MVCB), desempenhando um papel fundamental para garantir que câmeras, câmeras de vídeo, telêmetros a laser, radares e outros equipamentos baseados em visão funcionem em seus níveis ideais.
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