Fotomáscara de 3 polegadas

Zhixing, um fabricante profissional, gostaria de fornecer uma máscara fotográfica de 3 polegadas de alta qualidade.

A Photomask de 3 polegadas é um componente muito importante na visão de máquina, pois pode realizar processamento local ou operações de filtragem na imagem no processo de processamento de imagem, para que a qualidade da imagem possa ser melhor melhorada e otimizada. A Photomask de 3 polegadas pode ser usada para identificar as bordas da imagem, enfatizar o contorno e as características do objeto da imagem, que tem um papel importante em muitos cenários de aplicação.

Por exemplo, no reconhecimento de imagem, a versão máscara pode suavizar o ruído e os detalhes da imagem através de operações como o desfoque gaussiano, de modo a tornar a imagem mais clara e brilhante, o que é mais propício ao reconhecimento e classificação do objeto alvo. No campo da análise de imagens médicas, a 3 Inch Photomask pode ser usada para localizar e rotular áreas doentes, ajudando os médicos a diagnosticar e tratar doenças relacionadas com mais precisão.

Além disso, a versão máscara também pode ser utilizada em aplicações de alta tecnologia, como visão robótica e direção automática, por meio da segmentação e triagem de imagens, de forma a obter resposta rápida e adaptação ao ambiente e às condições da estrada, e melhorar a inteligência nível e competitividade dos produtos relacionados. Portanto, o papel da máscara na indústria de visão artificial é muito indispensável.

Resumindo, a 3 Inch Photomask é um componente muito importante na visão de máquina, que pode processar e otimizar imagens localmente e possui uma ampla gama de cenários e funções de aplicação. Acreditamos que na contínua inovação tecnológica e prática, a importância e o papel da máscara na indústria de visão artificial continuarão a aumentar.

Recurso:

Apenas alguns produtos são apresentados na tabela, caso necessite de outros produtos pode consultar o atendimento ao cliente

Exibição física de produtos de litografia com máscara fotográfica de vidro de quartzo

Os dados gráficos da Photomask de 3 polegadas são projetados e enviados pelo usuário, e a tecnologia de processamento subsequente é concluída pelo engenheiro. Como a preparação de dados gráficos é uma etapa fundamental no processamento de máscaras, os usuários são obrigados a verificar cuidadosamente os arquivos de layout enviados para garantir a exatidão dos gráficos.

processo de elaboração:

(1) Desenhe um arquivo de layout de retículo de máscara (formato GDS) que possa ser reconhecido pelo dispositivo de geração

2) Use uma máquina de litografia sem máscara para ler o arquivo de layout, realizar a exposição sem contato (comprimento de onda de exposição 405 nm) no retículo em branco com cola e iluminar a área do padrão necessária no retículo para fazer o fotorresistente nesta área. (geralmente cola positiva) sofre uma reação fotoquímica

3) Após revelação e fixação, o fotorresistente na área exposta se dissolve e cai, expondo a camada subjacente de cromo

4) Use solução de gravação de cromo para gravação úmida, ataque a camada de cromo exposta para formar uma área de transmissão de luz, e a camada de cromo protegida pelo fotorresistente não será gravada, formando uma área opaca. Dessa forma, estruturas de padrões planos com diferentes transmitâncias de luz são formadas no retículo.

5) Se necessário, use métodos úmidos ou secos para remover a camada fotorresistente do retículo e limpe o retículo.

Fotos da exposição