Fotomáscara de 4 polegadas

Zhixing tem vasta experiência na produção de Photomask de 4 polegadas, temos nossa própria fábrica de processamento e produção, o preço é favorável e apoiamos a personalização de vários tamanhos, garantindo alta precisão, para atender a todas as necessidades dos clientes, bem-vindo ao consultar , Aguardo ansiosamente para trabalhar com você.

A Photomask de 4 polegadas é um dispositivo muito importante na indústria óptica, que é usado principalmente no processo de fabricação e produção de dispositivos ópticos. A faixa de aplicação da versão máscara é muito ampla, cobrindo muitos campos, como eletrônica, semicondutores, óptica e química. A tecnologia Photomask de 4 polegadas permite a produção de precisão de fabricação em nível de mícron e modelos de alta qualidade, o que fornece suporte importante para o desenvolvimento da indústria óptica.

No campo da eletrônica, a versão máscara é usada principalmente para produzir diversos componentes microeletrônicos em produtos eletrônicos, como transistores, circuitos integrados, chips de LED e assim por diante. Através da tecnologia de placa de máscara, a precisão de fabricação em nível de mícron pode ser alcançada, tornando o processo de fabricação de componentes eletrônicos mais refinado e eficiente e melhorando significativamente a capacidade de produção e a qualidade do produto da indústria eletrônica.

Na indústria de semicondutores, a Fotomáscara de 4 Polegadas também é um dispositivo indispensável. O chip semicondutor é um dos componentes básicos da ciência e tecnologia modernas, e a placa de máscara é uma ferramenta de fabricação indispensável no processo de produção de chips semicondutores. A Photomask de 4 polegadas pode realizar o processamento e crescimento "local" de chips semicondutores, tornando a produção de chips semicondutores mais eficiente e refinada e melhorando a capacidade de fabricação e a qualidade do produto da indústria de semicondutores.

Na indústria óptica, a versão máscara é usada principalmente para fabricar dispositivos ópticos de alta precisão, como painéis solares, películas de proteção óptica e assim por diante. A tecnologia de placa de máscara pode alcançar um controle preciso da forma, tamanho, espessura e outros parâmetros do dispositivo óptico, produzir dispositivos ópticos de alta qualidade e fazer a indústria óptica crescer cada vez mais forte.

A tecnologia de placas de máscara também é amplamente utilizada no campo da química. Na produção química, a placa de máscara pode atingir a fabricação de precisão de nível mícron, a produção de materiais compósitos de alta qualidade, reagentes químicos e produtos farmacêuticos e outros produtos, deu uma importante contribuição para o desenvolvimento da indústria química.

Em resumo, a faixa de aplicação da placa de máscara na indústria óptica é muito ampla e pode atingir precisão de fabricação em nível de mícron, o que promove o desenvolvimento de alta qualidade da indústria óptica. Com o progresso contínuo da ciência e da tecnologia, a tecnologia das máscaras também é constantemente atualizada e melhorada, proporcionando um espaço de desenvolvimento mais amplo para o desenvolvimento futuro da indústria óptica.

Recurso:

Apenas alguns produtos são mostrados na tabela, caso necessite de outros produtos,

você pode consultar o atendimento ao cliente

Exibição física de produtos de litografia com máscara fotográfica de vidro

processo de elaboração:

(1) Desenhe um arquivo de layout de retículo de máscara (formato GDS) que possa ser reconhecido pelo dispositivo de geração

2) Use uma máquina de litografia sem máscara para ler o arquivo de layout, realizar a exposição sem contato (comprimento de onda de exposição 405 nm) no retículo em branco com cola e iluminar a área do padrão necessária no retículo para fazer o fotorresistente nesta área. (geralmente cola positiva) sofre uma reação fotoquímica

3) Após revelação e fixação, o fotorresistente na área exposta se dissolve e cai, expondo a camada subjacente de cromo

4) Use solução de gravação de cromo para gravação úmida, ataque a camada de cromo exposta para formar uma área de transmissão de luz, e a camada de cromo protegida pelo fotorresistente não será gravada, formando uma área opaca. Dessa forma, estruturas de padrões planos com diferentes transmitâncias de luz são formadas no retículo.

5) Se necessário, use métodos úmidos ou secos para remover a camada fotorresistente do retículo e limpe o retículo.

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